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平成30年度 春季講習会
4/25 10:00〜12:00 寺本
(東北大学
教授)
半導体デバイスの基礎
−半導体デバイスの基礎、トランジスタの動作など−
4/25 12:45〜14:45 寺本
(東北大学
教授)
半導体製造プロセス@
−熱酸化、熱拡散、イオン注入、リソグラフィー, 薄膜形成−
4/25 15:00〜17:00 寺本
(東北大学
教授)
半導体製造プロセスA
−ウェットプロセス、エッチングプロセス等 、表面電子科学−
4/26 9:30〜12:00  平山
(東北大学
准教授)
プラズマの物理・プラズマ装置
−半導体製造に欠かすことの出来ないプラズマプロセスについてプラズマの基礎から計測技術、各種プラズマ装置の原理等について−
4/26  12:45〜
14:45
後藤
(東北大学
准教授
半導体製造用プラズマプロセス及びプラズマ装置技術
−スパッタ、CVD、エッチング等のプラズマプロセスの具体例、及びプラズマ装置を構成する要素技術−
4/26  15:00〜17:00  須川
(東北大学
教授)
イメージセンシング技術の現状と将来

平成29年度 冬季講習会
12/25 10:00〜12:00 若山
(大成建設)
クリーンルーム設計論
クリーンルームの基本的考え方から実際に使用されている技術、省エネ対策の事例、クリーンルームの維持管理手法等について
12/25 13:00〜
14:30
若山
(大成建設)
固体表面への有機物吸着・汚染(大気圧下)
クリーンルーム等の大気圧下におけるシリコン表面への有機物汚染とその制御方法について
12/25 14:40〜
16:10
白井
(東北大学)
固体表面への有機物吸着・汚染(減圧下)
製造装置内の減圧下におけるシリコン表面に対しての有機物の吸着・汚染およびその対応策について
12/25 16:20〜
17:20
白井
(東北大学
固体表面への水分吸着・汚染
シリコン表面やステンレス等の固体表面に対して気相中に含まれる水分の吸着・汚染挙動および測定方法について
12/26 9:30〜12:00 白井
(東北大学)
超高純度ガス供給技術
ガス供給技術の基本的考え方、ステンレスの表面研磨、不動態処理技術、流量制御器等のガス部品について
12/26 13:00〜
15:30
横井
(栗田工業)
超純水製造技術
超純水製造の基本から機能水(水素水、オゾン水等)の効果、使用済み薬液の回収技術まで
12/26 15:40〜
17:10
白井
(東北大学)
FFF設備実習
クリーンルームおよび機械室にて使用されている設備等について現地で実物を確認しながら理解を深める。クリーンルームはもとより普段は入室できないユーティリティゾーンや機械室にも入って頂きます。
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