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研究紹介

クリーンルーム整備共用化の推進と半導体製造技術・センサ技術の開発（須川プロジェクト）では、しなやかな知的機能を有する ULSI の実現を目標として、シリコンテクノロジーに関するすべてを網羅した研究が行われています。現在では、半導体製造装置の開発、プロセス技術の研究、超高速デバイスの開発、さらには知的な情報処理を行う電子回路の研究まで、シリコン半導体に関わる幅広い研究が行われています。その内容は非常に多岐にわたり、研究は多くのグループに分かれて行われており、シリコンテクノロジー全体を見まわすことが出来るという点で珍しい、そして魅力的な研究室です。ここではその概要を示します。
なお細目の左側の数字をクリックすると、研究内容を紹介するパネルが表示されます。（PDFファイル）
これらのパネルは、2023年12月に東京ビッグサイトで行なわれた半導体製造に関する展示会「セミコンジャパン2023」にて会場に掲示されたパネルを元にしています。ただし、印刷・変更はできないようにセキュリティを掛けていますので、コンピュータスクリーン上のみでの閲覧しかできません。御了承下さい。

1　東北大学・未来科学技術共同研究センター・未来情報産業研究館
2　東北大学半導体テクノロジー共創体_半導体製造プロセス・部素材・イメージセンサ開発実証拠点1
3　東北大学半導体テクノロジー共創体_半導体製造プロセス・部素材・イメージセンサ開発実証拠点2
4　IoT・センサネットワーク社会を支える世界最高性能の CMOS イメージセンサの開発実用化
5　高速・高ＳＮＲ撮像素子による流体濃度分布その場計測デバイスの開発
6　高濃度オゾン水によるレジスト除去技術
7　ダメージフリー回転マグネットスパッタ装置
8　Cr2O3 / Al2O3不働態処理技術
9　ゆらぎや振動のない研究施設（１）
10　未来情報産業研究館クリーンルーム概要