東北大学未来科学技術共同研究センター未来情報産業研究館
Fluctuation Free Facility (FFF),
New Industry Creation Hatchery Center (NICHe), Tohoku University
 

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 目次

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研究紹介
来情報産業創製寄附研究部門では、 しなやかな知的機能を有する ULSI の実現を目標として、 シリコンテクノロジーに関するすべてを網羅した研究が行われています。現在では、半導体製造装置の開発、プロセス技術の研究、超高速デバイスの開発、さらには知的な情報処理を行う電子回路の研究まで、 シリコン半導体に関わる幅広い研究が行われています。その内容は非常に多岐にわたり、研究は多くのグループに分かれて行われており、シリコンテクノロジー全体を見まわすことが出来るという点で珍しい、 そして魅力的な研究室です。ここではその概要を示します。
なお細目の左側の数字をクリックすると、研究内容を紹介するパネルが表示されます。(PDFファイル)
これらのパネルは、2017年12月に東京ビッグサイトで行なわれた半導体製造に関する展示会「セミコンジャパン2017」にて会場に掲示されたパネルを元にしています。ただし、印刷・変更はできないようにセキュリティを掛けていますので、 コンピュータスクリーン上のみでの閲覧しかできません。御了承下さい。

    1   半導体製造・分析・評価が可能な総合研究施設
     2   各種プロセス・部品・材料の評価が可能
     3   共同研究事例
     4   未来情報産業研究館クリーンルームに保有する半導体製造装置
     5   高品質SiN膜形成と高選択比ドライエッチング技術
     6   仕事関数差を考慮した低抵抗コンタクト形成
     7   超高速LSIを実現する新しいシリコン技術
     8   MOSFET電気特性の新規統計的評価手法
     9   ウェットエッチングの三次元積層半導体プロセスへの適用
    10  新世代洗浄技術への挑戦
    11  マイクロ波励起低電子温度高密度プラズマ
    12  ラジカル反応ベースプラズマプロセス装置
    13  ダメージフリー回転マグネットスパッタ装置
    14  高速信号伝搬プリント配線基板
    15  Cr2O3 / Al2O3不働態処理技術
    16  高信頼性W-Seal継手
    17  完全制御ガス供給システム
    18  〜真空部品〜 超高精密溶接ベローズ
    19  ゆらぎや振動のない研究施設(1)
    20  ゆらぎや振動のない研究施設(2)

   21  未来情報産業研究館クリーンルーム概要